電（diàn）鍍處理過程中所用的（de）設備（bèi）主要有各類固定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃等。鍍後處理（lǐ）是對零件進行拋光、出光、鈍化、著色（sè）、幹燥、封閉、去氫等工作，龍門（mén）式掛鍍生產（chǎn）線，根據（jù）需要選用其中一（yī）種或數種工序（xù）使零件符合（hé）質量要（yào）求。鍍後處理常用設備主（zhǔ）要有磨、拋光機，各類固定槽。全自動環形垂直升（shēng）降電（diàn）鍍流水線
工藝要求
1. 鍍層與基體金屬，鍍層與鍍層（céng）之間，應有良好的（de）結合力（lì）。
2. 鍍層應結晶細致，掛鍍生產線研發，平整，厚度均勻。
3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能（néng）少的孔隙。
4. 鍍層應具有（yǒu）規定的各項指（zhǐ）標，如光亮度，硬度，導電性等。
5. 環境溫度為-10℃～60℃;
6. 輸入電壓為（wéi）220V±22V或380V±38V;
7. 水處（chù）理設（shè）備最.大工作噪聲應不大於80dB(A)。
8. 相對濕度(RH)應不大於95%;
9. 原（yuán）水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電鍍時間（jiān）及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚（hòu）度的大小。
電鍍（dù）的（de）概念
就是利用電解原理在某些金屬表麵上鍍上一薄層其它金屬（shǔ）或合金的過程。電鍍時，鍍層金屬做陽極，被氧化成陽離子進入（rù）電鍍液；待鍍的金屬製品做陰極，鍍層金屬的陽離子在金屬表麵被還原形成鍍層（céng）。為排除其它（tā）陽離子的幹擾，且使鍍層均勻、牢固，掛鍍生產線公司（sī），需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍（dù）的目的（de）是在基材上鍍上（shàng）金屬鍍層，改變（biàn）基材表麵性質或尺寸.電鍍能增強金（jīn）屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬（yìng）度、防止磨耗、提高（gāo）導電（diàn）性、潤滑性、耐熱性、和表麵美觀。
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