電鍍處理過程中所用的設備主要有各類固定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃（lán）等。鍍（dù）後處理（lǐ）是對零件進行拋光、出光、鈍化、著色（sè）、幹燥（zào）、封閉、去（qù）氫等工作，龍門式（shì）掛（guà）鍍（dù）生產（chǎn）線（xiàn），根據需要選用其中（zhōng）一種或數種工序使零件符合（hé）質量（liàng）要求。鍍後處理常用設備主要有磨、拋光機，各類固定槽。全自動（dòng）環形垂直升降（jiàng）電鍍流水線
工藝要求
1. 鍍層與基體金屬，鍍層與鍍層之間，應有良好（hǎo）的結合力。
2. 鍍層應結晶細致，掛鍍生產線研發，平整，厚度均勻。
3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的孔（kǒng）隙。
4. 鍍層應具有規（guī）定的（de）各項指標，如光亮度，硬度，導電性等。
5. 環境溫（wēn）度為-10℃～60℃;
6. 輸入電壓為220V±22V或380V±38V;
7. 水（shuǐ）處理設備最.大（dà）工作噪聲應不（bú）大於80dB(A)。
8. 相對濕度(RH)應不大於95%;
9. 原水COD含量（liàng）為100mg/L～150000mg/L。
10. 電鍍時間及電鍍（dù）過程（chéng）的（de）溫度，決定鍍層厚度的大小。
電鍍的（de）概念
就是利用電解原理在某些金屬表麵上鍍上一薄（báo）層其它金（jīn）屬或合金（jīn）的過程。電鍍時，鍍層金屬做（zuò）陽極，被氧化（huà）成陽離子進入電鍍液；待鍍（dù）的金屬製品做陰（yīn）極，鍍層金屬的陽離子在金屬表（biǎo）麵被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的幹擾，且使鍍層均勻（yún）、牢固，掛鍍生產線公司，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離（lí）子的（de）濃度不變。電鍍的（de）目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表麵性質或（huò）尺寸.電鍍能增（zēng）強金屬的（de）抗腐蝕性(鍍層金屬多采用（yòng）耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗（hào）、提高導（dǎo）電性、潤滑性、耐熱性、和表麵美觀。
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