電解處理--去除鍍液金屬雜質方法

發表時間:2022/04/10 閱讀量:1107 來源: 深圳(zhèn)誌成(chéng)達

  電解處理是大家在電鍍工業中常用的去除雜質的方法。電解處理亦是一個電鍍過程(chéng),不(bú)過(guò)它不(bú)是以獲得良(liáng)好(hǎo)電鍍層為目的,而是(shì)以去除雜質(或調整鍍液成分含量)為目的。所不同(tóng)的隻是在陰極上不(bú)吊掛零件,而是改為吊掛以去除(chú)雜質而製作的(de)電解板(又稱假陰(yīn)極)。在通電的情(qíng)況下,使雜質在(zài)陰極電解板上(shàng)沉積、夾附或還原成相對無害的物質。在(zài)少數情況下,電解去除雜質也有(yǒu)在陽極上進行的,使某些能(néng)被氧化的(de)雜質,在通電的情況下,到達(dá)陽(yáng)極上氧化為(wéi)氣體逸出或變為相對無害的物質。


  一、電解條件的選擇

  這裏所指的電(diàn)解,目的是要去除鍍液中的雜質,但是在電解去除雜質(zhì)的(de)同時,往(wǎng)往也伴隨有溶液中主要(yào)金屬(shǔ)離子的(de)放電沉積。為了提高(gāo)去除雜(zá)質的速率,減慢(màn)溶液中(zhōng)主要金屬離子的沉積速率,就要注意(yì)電解處理的操作條(tiáo)件。


  ① 電流密度:電解處理時,以控製多大的電流密度為好,原(yuán)則上(shàng)要按照電鍍時雜質起不良影響的電流密度範圍。也就是說,在電鍍過程中(zhōng),若雜質的影響反映在低電流密度區,那麽電解處理時應控製在低電流密度下進行,假使雜質的影響反映在高電流密度區,則應(yīng)選用高(gāo)電流密度進(jìn)行電解;如果雜質在高電流密度區和低電流密度區都有(yǒu)影響,那麽可先用高電流密度電解(jiě)處理一段時間,然後再改用低電流密(mì)度電解處理,直(zhí)至(zhì)鍍液恢複正(zhèng)常。在一般情況下,凡是用(yòng)低電流密度電解可以去除的雜質,為了減少鍍液中(zhōng)主要放電金(jīn)屬離子的沉積,一(yī)般都采用低電流密度電解。事實(shí)上,電鍍生產中,多數雜質的(de)影響反映在低電流密度區,所以通常電解處理的電(diàn)流密度控製在0.1A/dm2~0.5A/dm2之間(jiān)。


  ② 溫度和pH值(zhí):電解處理時(shí)溫度和pH的(de)選(xuǎn)擇,原則上也是要根據電鍍時雜質起不良影響較大(dà)的溫度和pH範圍。例如鍍(dù)鎳溶液中的銅雜質和NO3-雜質,在pH較低時的影響較大,所以電解去除鍍(dù)鎳溶液中的(de)銅雜質和NO3-雜質時,應選用低pH進行電(diàn)解,在這樣的條件下,去除雜(zá)質的速率較快。有些(xiē)雜(zá)質在電解過程中(zhōng)會分解為氣(qì)體(如NO3-在陰極上還原為氮氧化物或氨,Cl-在陽極上氧化為Cl2,等,這時就應選用高溫電解(jiě),使電解過程中形成的氣(qì)體揮發逸(yì)出(氣體在溶液中的溶解度,一般(bān)隨溫(wēn)度升高而降低),從而防止它溶解於(yú)水而重新沾汙(wū)鍍液。


  按照一般規律,隨著鍍液(yè)溫度的升高,電(diàn)解去除雜質的(de)速率也增大,所(suǒ)以當加溫對鍍液(yè)主要成分沒有影(yǐng)響(xiǎng)時,電解處理宜在加溫下進行。但究竟以控製在什麽溫度為好,最好通過小試驗(yàn)確定。


  ③ 攪拌:電解(jiě)處(chù)理既然是依靠雜質在陰極(或陽極)的表麵上反應而被除去,那麽就應創造條件(jiàn),使雜質與電極表麵有充(chōng)分的接觸機會。攪(jiǎo)拌可以加速雜質運動,使它與電極的接觸機會增多,所以為了提高處理效(xiào)果,電解時(shí)應攪拌鍍液。


  二、電解處理的要求

  ① 首先要查明有害雜質是否來源於電解過程:電解處理可以去除某些雜質,但(dàn)有時也會產生雜質。例(lì)如有害(hài)雜質來源(yuán)於(yú)不純的陽極,電解處理時仍用這種陽極,那麽隨著電解過程的進行,雜質會越積越多;又如雜質來源於某些化合物在電極(jí)上的分解,那麽(me)電解將使這類分解產物逐漸增多。這樣的電解處理,不但不(bú)能淨化鍍液,反而會不斷加重鍍液的汙染。因此,在電解處理前,要進行必要的檢查,預防處理過程中產生有害(hài)雜質。


  電解用的(de)陰極(假陰極)麵積要盡可能(néng)大:用電解(jiě)法去除雜質,大(dà)多(duō)是在陰極表麵上進行的,所以增大陰極麵積,可以提(tí)高去除雜質的效率n同時為了在(zài)不同的電流密度部位電解去除鍍液(yè)中不(bú)同雜質或同一種雜質,要求電解用的(de)陰極做(zuò)成凹凸的表麵(如瓦楞形),這樣可以提高電解(jiě)處理的效果。但陰極上的凹處不宜太深,以防止電流密度(dù)過小而使雜質不能在這些部位沉積或還原。


  ③ 電解過(guò)程中,要定時刷洗陰極:由於電解處理的(de)時間一般都比較長,在長時間的電解過程中(zhōng),陰(yīn)極上可能會產生疏鬆的沉積物,它的(de)脫落會重新(xīn)沾汙鍍液,所以在電解一段時間後(hòu),應將陰極取出刷洗,把陰極上疏鬆或不良的沉積物刷去後(hòu)再繼續電解。


  ④ 電解處理前,最好先做小試驗估計一下電解處理的效果和時間:有些雜質,用電解處理很難除去,若盲目地采用電解(jiě)處理,可能花了很長時間(jiān)也不能(néng)使鍍液恢複正常。

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